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        M2轉換模塊Holoor

        簡要描述:M2轉換模塊Holoor
        HOLO/OR的 M2轉換模塊是我們全面的一部分LeanLine的解決方案,我們提供為有興趣做自己的線整形的客戶提供獨立的解決方案。該模塊是一種經濟高效的解決方案,使用多模(MM)激光器作為輸入,可以在一個軸上獲得近乎單模(SM)的光束質量。

        • 產品型號:
        • 廠商性質:代理商
        • 更新時間:2020-03-17
        • 訪  問  量:94

        詳細介紹

        品牌其他品牌價格區間3千-1萬
        組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,生物產業,電子

        M2轉換模塊Holoor

        HOLO/OR的 M2轉換模塊是我們全面的一部分LeanLine的解決方案,我們提供為有興趣做自己的線整形的客戶提供獨立的解決方案。該模塊是一種經濟高效的解決方案,使用多模(MM)激光器作為輸入,可以在一個軸上獲得近乎單模(SM)的光束質量。

        HOLO/OR’s M2 transformation module is a part of our full LeanLine solution, that we offer as a stand-alone solution for customers interested in doing their own line shaping. This module is a cost-effective solution to get almost-single mode (SM) beam quality in one axis, using a multi-mode (MM) laser as the input.

        它非常容易對準,保持相同的光軸,并且具有低NA光學器件。使其易于與現有的線聚焦光學器件集成。與競爭解決方案不同,輸入光束可以是圓形的,并且不需要是橢圓形的。只需將模塊插入光路,經過一些微調后,您將獲得M2變換后的光束。

        It is extremely easy to align, maintains the same optical axis, and has low NA optics; making it easy to integrate with existing line focusing optics. Unlike with competing solutions, the input beam can be round, and is not required to be elliptical in shape. Just insert the module into your beam path, and after some fine adjustment you will have an M2 transformed beam.

        衍射解決方案的優勢:

        ●基于內部開發的HOLO / OR “獨特的IP。

        Internally developed based on HOLO/OR’s unique IP.

        ●易于對準和安裝–模塊已預先對準并密封。

        Easy alignment and installation – the module comes pre-aligned and sealed.

        ●通過光刻生產工藝實現光束質量轉換的極高精度。

        Extremely high precision for beam quality transformation, achieved by the lithography production process.

        ●完全透射(無反射)的同軸系統。

        A fully transmissive (no reflection), on-axis system.

        ●無像差。

        Aberration free.

        ●沒有內部重點。

        No internal focus points.

        ●在DUV 193nm至1940nm NIR的寬光譜范圍內可用。

        Available in a wide spectral range from DUV 193nm to 1940nm NIR.

        由高質量的紫外熔融石英制成,在所有表面上均具有大功率增透膜。

        Made of high-quality UV fused silica with high power AR coating on all surfaces.

        M2轉換模塊Holoor一般規格:

        Wavelength:

        193-1940[nm]

        Input M²:

        12-30

        Fast axis profile:

        Flat-Top like

        Slow axis profile:

        Separate sections

        Transmission:

        > 93%

        Dimensions:

        30mm diameter, 600mm length

        * One wavelength per system, max spectral width 2% of input wavelength.

        工作原理

        輸出形狀由等距離分隔的部分組成,其中一個軸(快軸)的質量接近SM,第二個軸(慢軸)的高度MM。可以將這些分離的低M2部分重新塑形并聚焦到具有良好同質性的細衍射極限線。適合材料加工的應用需求。

        M2轉換模塊模擬

        以下是M2轉換模塊的模擬性能結果。上方的兩個剖面顯示了光束直徑為343 nm的圓形多模激光源的強度和發散度。6毫米,發散度0.083度。通過使用我們的M 2計算器,那些計算出的光束參數等效于 20 的M 2

         

        圓形多模激光源的強度和散度

        下圖顯示了M 2轉換模塊出口處的強度和發散度。在具有小M 2的軸上,光束的大小為0.65 mm,發散度為0.094度。計算出的M 2為2.4。

        精益生產線(TM)

        LeanLine TM是HOLO/OR的創新解決方案,用于將圓形輸入光束轉換為窄激光線,可用于各種大功率應用,尤其是在UV和綠色波長(343、355和532 nm)的情況下。

        HOLO / OR提供了一個強大的2-模塊系統,該系統將低相干性的圓形輸入轉換為用戶確定的長度(100mm-750mm)的窄線。

        我們的解決方案基于專有的衍射光束整形概念,可以針對從193nm深紫外到1940nm IR激光器的任何波長進行定制。

        通過使用該解決方案,您可以使用低功率,低成本的激光器在細線中實現相同的功率密度;提供大量節省。

        激光532nm,線64mm x 28um

        激光355nm,線100mm x 11um

        沿激光線輪廓

        衍射解決方案的優勢

        ●易于對準和安裝。

        Easy alignment and installation.

        ●通過光刻生產工藝實現光束質量轉換的極高精度。

        Extremely high precision for beam quality transformation, achieved by the lithography production process.

        ●完全透射(無反射)的同軸系統。

        A fully transmissive (no reflection), on-axis system.

        ●無像差。

        Aberration free.

        ●可以輕松修改以產生不同的線長和寬度。

        Can be easily modified to produce different line lengths and widths.

        ●沒有內部重點。

        No internal focus points.

        ●可提供從DUV到NIR的寬光譜范圍。

        Available in a wide spectral range from DUV to NIR.

        該解決方案包括兩個模塊

        ●第1個模塊是M 2轉換模塊。它用于光束質量轉換和細線光束整形。

        The first module is M 2 transformation module. It is used for beam quality transformation and thin line beam shaping.

        ●第二個模塊用于控制線長和在窄軸上聚焦。

        The second module is used for line length control and focusing in the narrow axis.

        應用范圍

        ●激光剝離工藝和脫膠。

        Laser lift off processes & debonding.

        ●激光退火

        Laser annealing.

        ●激光焊接

        Laser Welding.

        ●薄膜太陽能電池生產

        Thin-film solar cell production.

        ●直接激光干涉圖案(DLIP)

        Direct laser interference patterning (DLIP).

        ●OLED顯示器

        OLED displays.

        材料

        處理多種材料,包括:

        ●硅

        Silicon

        ●玻璃上硅鍵合片

        Silicon on glass.

        ●聚合物

        Polymers.

        ●玻璃上的ITO

        ITO on glass.

        一般規格

        Wavelength:

        343,355, 532 [nm]

        Input M2:

        12-25

        Line length:

        On demand

        Line uniformity:

        <5%

        Line thickness FWHM:

        < 20 [um]

        Efficiency:

        > 75 %

        Working distance:

        125 [mm]

        Energy density at sample:

        Laser power dependent

        Dimensions:

        TBD

        Full System length:

        TBD

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